Hiden TOF-qSIMS飛行時間二次離子質譜工作站設計用于多種材料的表面分析和深度剖析應用，包括聚合物，藥物，超導體，半導體，合金，光學和功能涂層以及電介質，檢測限低于1ppm。

離子分析質譜儀/飛行時間二次離子質譜儀可分析來自固體樣品的二次陰、陽離子和中性粒子。采用技術的SIMS 探針，便于連結到現有的UHV表面科學研究反應室。

二次離子質譜儀適合做多層薄膜的深度分析,可以做元素成像和混合模式掃描，自動測量正、負和中性粒子。